原子层沉积系统
铁电压电材料分析测试
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表面沉积、微纳米加工、制备
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- 反应离子蚀刻(RIE)和深反应离子刻蚀（DRIE）系统
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- 脉冲激光沉积（PLD）
- SPD-8262 自旋干燥机
- TASC-3000 自动匀胶机
- MSC-450 手动旋转器
- MSC-300T 手动旋转器
- MSS-300T 手动旋转器
- TMSC-6000 自动旋转清洗干燥设备
- TMS-410E 自旋蚀刻机
- TMS-401 自旋式多功能处理机
- PTS-150L 等离子体处理系统
光电类
半导体相关
- Nanosis-620 纳米压印系统（Nano-Imprint)
- SMI MOCVD系统
- kSA 应力测绘系统
- kSA薄膜热应力测试系统
- kSA 沉积速率监测和过程控制系统
- kSA原位薄膜应力计
- KSA-Bandit半导体基片温度实时监测装置
- kSA400-RHEED 分析系统
- JECC TORISHA 真空绝热配管
- CRYOFAB 液氦存储杜瓦
- SuzukiShokan 小型氦制冷机（20K,80K）
- SuzukiShokan 循环冷却装置
- CRS系列选件-励磁电源
- SuzukiShokan 超导磁体制冷系统
- SuzukiShokan 制冷机
- TOBI 探针台
- AD-3000 紧凑型生长设备
- AD-1200 紧凑型生长设备
- ED-3000 紧凑型蚀刻设备
- ED-1200 紧凑型蚀刻设备
- TMSC-4000 自动旋转清洗系统
- MSW-300T 手动旋转清洗系统
- GMBC-1000M 掩膜清洗机
- GMBC-150M 掩膜清洗机
- 铁电、压电材料扫描探针显微镜表征系统